盛阳浅谈：集成电路布图设计专有权

盛阳专利 2024-02-23 10:01:00

根据《集成电路布图设计保护条例》（以下简称《条例》）第八条的规定，只有经过登记的集成电路布图设计才能获得专有权保护，登记是获得专有权的必要条件。
根据《条例》第十六条与《集成电路布图设计保护条例实施细则》（以下简称《细则》）第十四条的规定，申请布图设计登记应当提交布图设计的复制件或者图样；可以同时提供该复制件或者图样的电子版本，电子版本应当包含该布图设计的全部信息；布图设计已投入商业利用的，还应当提交含有该布图设计的集成电路样品。

通常，布图设计专有权的权利载体包括两种形式：复制件或图样、含有该复制件或图样的集成电路样品。两种载体形式所反映的布图设计应当是相同的。
记备案时，申请人提交的集成电路样品内部反映的布图设计应当与其提交的复制件或图样所反映的布图设计是一致的。但有些申请人提交的复制件或图样与集成电路样品所反映的布图设计存在不同。此时权利载体是以复制件或图样为准，还是以集成电路样品为准，并没有一个统一标准。

随着集成电路技术的不断发展，传统意义上的复制件或图样已经无法清楚完整地展示集成电路内部布图设计的全部细节，至少需要放大千倍以上才能看清楚集成电路内部的层次和具体细节。对于纳米技术而言，放大倍数要求更高。
在登记环节，对于比较复杂的集成电路布图设计来说，要求申请人提交一份能够清楚完整地展示布图设计全部细节的复制件或图样，显得过于苛求，申请成本也过于高昂。因此有些申请人在登记备案时提交的复制件或图样，并不能够清晰表达布图设计的全部细节。单独依靠这种不够清晰的复制件或图样，无法与被控侵权布图设计进行准确的对比分析，不利于查明侵权事实。
申请人在登记备案时提交的集成电路样品，经过专业手段处理后能够清楚准确地呈现布图设计的任何细微之处，在此基础上与被控侵权布图设计进行对比分析，能更准确地判断侵权是否成立。可见，集成电路样品可以作为复制件或图样的补充，当登记备案的复制件或图样所反映的布图设计存在某些细节不够清晰，对侵权判断存在影响时，在集成电路样品与复制件或图样一致的前提下，可以使用样品呈现的布图设计来明确复制件或图样的细节。

综上所述，在司法实践中，关于权利载体的效力认定问题，行政执法委员会认为：

登记时尚未投入商业利用的布图设计，以复制件或图样为准。
登记时已投入商业利用的布图设计，复制件或图样能够清晰完整地呈现布图设计全部细节的，以复制件或图样为准；
复制件或图样的细节不够清晰，单独依靠复制件或图样无法界定专有权保护范围的情况下，集成电路样品与复制件或图样呈现的布图设计一致时，可以参考集成电路样品来明确复制件或图样不清晰的细节。

关于如何确定布图设计专有权保护范围，在司法时间中，行政执法委员会认为：

鉴于布图设计登记时不要求声明其独创性，在侵权纠纷中，应依据权利载体载明的布图设计，结合权利人在请求书中作出的独创性声明，确定权利人主张的专有权保护范围，并以此保护范围为准判断侵权行为是否成立。
此外，对于权利人在独创性声明中涉及设计思想、功能的描述，在确定布图设计专有权保护范围时不予考虑。

盛阳浅谈：集成电路布图设计专有权

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